中山湯氏化工

主营:蒙砂粉,蒙砂膏,冰雕液,抛光液,凹蒙液,无手印处理液,去霉剂,去纸印膏,银镜脱银锐漆剂

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水钻玻璃专用高效抛光液

  • 水钻玻璃专用高效抛光液
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  • 供应标题:水钻玻璃专用高效抛光液

    发布公司:中山湯氏化工

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    联系人:曹小姐

    发货地点:广东 中山 中山市

    发布时间:2016年09月30日

    有效期至:2016年10月31日

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基本信息

水钻玻璃专用高效抛光液

工艺玻璃近年来,随着装饰行业的发展和壮大,深加工玻璃凭借其良好的透光、可视、环保等其它材料不可代替的装饰效果,增添了空间装饰的活力,受到了人们的喜爱。目前市场上的玻璃抛光液品种繁多,价格行情差异大,涉及于它的质量与产量,直接影响了采购者对购买材料的主观判断。为此我们公司研发部门经过多年多次的试验与改良优化,现已成为我们公司重点推广的项目,玻璃抛光液用于抛光蒙砂玻璃,以加深玻璃的无手印效果,手感光滑,颗粒感,适用于生产各种移门,工艺简单易操作,抛光后的玻璃表面光滑但颗粒感强,明亮清透,不留瑕疵,使玻璃散发出独具风韵的艺术感;蒙砂玻璃近年来,随着装饰行业的发展和壮大,艺术玻璃凭借其良好的透光、可视、环保等其它材料不可代替的装饰效果,增添了空间装饰的活力,受到了人们的喜爱。

主营产品:环保蒙砂粉、超白蒙砂粉、玉砂膏、乳化膏、蒙砂液、丝印蒙砂油墨、蒙砂膏、凹蒙冰雕液、立体冰花液、银镜脱银脱漆剂、铝镜脱铝剂、脱铝膏、茶镜脱银剂、脱漆剂、洗镜水、脱镜液、抛光液、打砂油砂剂、无手印蒙砂耗材、蒙砂机、蒙砂池、淋砂机、冰雕池等玻璃机械、艺术玻璃深加工、镜子防氧化封边胶水、镜背胶水、脱银液,艺术玻璃加工技术、镀膜玻璃脱模剂!

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联系:0760-85880978客服QQ:2223712538

中山湯氏化工基本信息

中山汤氏化工座落于伟人孙中山先生的故乡-广东中山。是专业从事玻璃耗材以及玻璃蒙砂机械自动流水线全套设备的生产和销售。 生产的玻璃耗材有:水性蒙砂粉、酸性蒙砂粉、玻璃器皿蒙砂粉、低反射蒙砂粉、无手印蒙砂粉、高硼石英蒙砂粉、大版面玻璃蒙砂粉、灯饰蒙砂粉、蒙砂膏、凹蒙冰雕液、玻璃去霉剂、玻璃去纸纹膏、银镜(铝镜)脱银膏/脱漆剂;蒙砂粉(适用于普通玻璃、建筑幕墙、办公家具、平板玻璃、玻璃移门/窗、钢化、中空隔断、灯饰、工艺品、酒瓶、香水瓶,化妆瓶,葡萄瓶、相框、画框、显示屏等玻璃制品);蒙砂膏(适用于高档精美玻璃工艺品表面图案的加工,如在水晶玻璃、艺术灯片、茶几、国际象棋盘、杯垫、彩绘玻璃、门窗玻璃、镜面、大面积装饰玻璃等表面结合丝网版印制各种图案、商标、文字等,也可在艺术玻璃、玻璃珠等不平整的表面通过手绘各种图案);我公司原材料生产的玻璃蒙砂制品,表面均匀细腻、手感滑润、外观朦胧美丽、透光柔和,还可以达到环保的目的,深受广大客户的喜爱。 生产的要设备有QFXS150-20、FXS200-32悬挂蒙砂设备(适用于灯饰玻璃、工艺玻璃、化妆品玻璃、酒瓶等);TA全自动淋砂设备、TB科技型淋砂设备(适用于平板玻璃、日用玻璃、高棚玻璃等);TBS气压泉式设备(适用于玻璃米珠、玻璃弹珠等),利用以上设备生产玻璃制品,蒙砂成品率高、蒙砂质量稳定、操作简单、成本低省工省时、能够降低厂家药水损耗和玻璃的破损,提高产品质量和生产效率,增加厂家在激烈市场中的竞争力。特为环保问题研发新一代器皿专用蒙砂机械。TBS链板式玻璃器皿专用蒙砂机械。我公司是国内唯一家专业生产特殊器皿类玻璃蒙砂机械,适用于所有器皿类玻璃瓶,器皿蒙砂机械,可以提高蒙砂玻璃瓶的日产量(5-10万只),可以节约人力,降低产品的成本。减少药液的流失对环境的污染,减少玻璃的破损,提高产品的成品率,可以减少因人对酸性气味不适而产生的安全问题。 我们诚信“开拓、进取、求实、创新”的企业精神,坚持“质量为生存之本,信誉为发展之道”。欢迎广大客户光临指导,公司将以上乘的质量、优惠的价格、完善的服务为向导与您共创辉煌。 现公司面向全国诚招各地代理经销商,欢迎各位商友来电咨询以及来公司参观指导;“加入汤氏,财富向您招手”

联系人:曹小姐
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移动电话:18933329390
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网址:http://tsglass.glass.com.cn

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水钻玻璃专用高效抛光液产品概况

抛光液CMP(ChemicalMechanicalPolishing)化学机械抛光这两个概念主要出现在半导体加工过程中,最初的半导体基片(衬底片)抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等,但是得到的晶片表面损伤是及其严重的。直到60年代末,一种新的抛光技术——化学机械抛光技术(CMPChemicalMechanicalPolishing)取代了旧的方法。CMP技术综合了化学和机械抛光的优势:单纯的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,完美性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为完美的表面,又可以得到较高的抛光速率,得到的平整度比其他方法高两个数量级,是目前能够实现全局平面化的唯一有效方法。
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