| 申 请 号: |
200610100509.9 |
申 请 日: |
2006.06.30 |
| 名 称: |
叠层型光电动势装置 |
| 公 开 (公告) 号: |
CN1893120 |
公开(公告)日: |
2007.01.10 |
| 主 分 类 号: |
H01L31/04(2006.01)I |
分案原申请号: |
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| 分 类 号: |
H01L31/04(2006.01)I;H01L31/042(2006.01)I;H01L31/075(2006.01)I |
| 颁 证 日: |
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优 先 权: |
2005.6.30 JP 2005-190930 |
| 申请(专利权)人: |
三洋电机株式会社 |
| 地 址: |
日本大阪 |
| 发 明 (设计)人: |
岛正树 |
国 际 申 请: |
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| 国 际 公 布: |
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进入国家日期: |
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| 专利 代理 机构: |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代 理 人: |
龙 淳 | 摘要 本发明的光电动势装置,在光入射侧配置有将非晶硅层(8)作为光电变换层的光电动势组件,在其后侧配置有将微晶硅层(5)作为光电变换层的光电动势组件,其特征在于,将利用红外吸收分光法测量作为光电变换层的非晶硅层(8)和微晶硅层(5)所得到的Si-H拉伸模式的峰值面积设定为I[Si-H],将Si-O拉伸模式的峰值面积设定为 I[Si-O],将它们的比设定为α(=I[[Si-O]/I[Si-H])时,第二光电动势组件的作为光电变换层的微晶硅层(5)的α2大于第一光电动势组件的作为光电变换层的非晶硅层(8)的α1,而且,第二光电动势组件的短路电流Isc2大于第一光电动势组件的短路电流Isc1。
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