微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法

2008-7-31   来源：国家知识产权局   点击数：240次

申 请 号： 200710022290.X 申 请 日： 2007.05.11 名 称： 微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液及其制备方法 公 开 (公告) 号： CN101050338 公开(公告)日： 2007.10.10 主 分 类 号： C09G1/02(2006.01)I 分案原申请号： 分 类 号： C09G1/02(2006.01)I 颁 证 日： 优 先 权： 申请(专利权)人： 江苏海迅实业有限公司 地 址： 226600江苏省海安县开发区鑫来路89号 发 明 (设计)人： 仲路和 国 际 申 请： 国 际 公 布： 进入国家日期： 专利 代理 机构： 扬州市锦江专利事务所 代 理 人： 江 平 摘要　   本发明提供一种微晶玻璃加工用纳米二氧化硅磨料抛光液，其包括磨料 I、磨料II、表面活性剂、pH调节剂以及去离子水；各种组分所占的重量百分比为：磨料I为10％至40％，磨料II为5％至20％，表面活性剂为0.01％至0.6％，pH调节剂为1％至6％，去离子水为余量；前述各组分混合液的pH 值为10至12；可用于微晶玻璃的表面抛光加工中，有效减少微晶玻璃抛光后的表面划伤，降低微晶玻璃抛光后的表面粗糙度，能够满足制造计算机硬盘基板的需要，且抛光速率快，抛光液不腐蚀设备，使用的安全性能高。

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