可热处理的磁控溅射方法制备的低辐射镀膜玻璃

2008-6-10 来源：国家知识产权局点击数：232次

申请号：	200710097527.0	申请日：	2007.04.26
名称：	可热处理的磁控溅射方法制备的低辐射镀膜玻璃
公开 (公告) 号：	CN101058486	公开(公告)日：	2007.10.24
主分类号：	C03C17/34(2006.01)I	分案原申请号：
分类号：	C03C17/34(2006.01)I;C03C17/23(2006.01)N
颁证日：		优先权：
申请(专利权)人：	天津南玻工程玻璃有限公司
地址：	301700天津市武清开发区福源道
发明 (设计)人：	王烁;徐伯永	国际申请：
国际公布：		进入国家日期：
专利代理机构：	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人：	李帆

摘要　
本发明涉及一种镀膜玻璃，该镀膜玻璃按如下顺序包括：玻璃基片；在玻璃基片上的第一基层电介质层；在第一基层电介质层上的第二基层电介质层；在第二基层电介质层上的第一保护阻隔层；在第一保护阻隔层上的银层；在银层上的第二保护阻隔层；在第二保护阻隔层上的第一外层电介质层；在第一外层电介质层上的第二外层电介质层；在第二外层电介质层上的保护阻挡层。

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