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抛光液中国四川成都重庆

  • 抛光液中国四川成都重庆
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  • 供应标题:抛光液中国四川成都重庆

    发布公司:成都合利川电子科技有限公司

    供货总量:

    联系人:王钧

    发货地点:四川 成都 成华区

    发布时间:2013年11月29日

    有效期至:2013年12月30日

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    产品综合信息质量: 未计算

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基本信息

特性:

粗中精抛光面议

应用范围:

高档电子产品或五金制品

交期:

随时或另行协商

基本描述:

在常温下除去铝制品表面的油污及氧化层,经精磨,使铝,合金铝零件提高精度达到发亮照人效果。

成都合利川电子科技有限公司基本信息

成都合利川电子科技有限公司专业从事表面处理材料的生产与销售,经过多年的人才引进和技术改造, 拥有精湛的研发技术、多渠道的供销体制和极高的商业信誉,业己成为集研发、生产与销售于一体的现代工业科技企业。

主营产品: 公司成立年份:1900
公司网址:http://cdhelichuan.glass.com.cn

地区:四川 成都 成华区
网址: http://cdhelichuan.glass.com.cn

抛光液中国四川成都重庆产品概况

抛光液CMP(ChemicalMechanicalPolishing)化学机械抛光这两个概念主要出现在半导体加工过程中,最初的半导体基片(衬底片)抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等,但是得到的晶片表面损伤是及其严重的。直到60年代末,一种新的抛光技术——化学机械抛光技术(CMPChemicalMechanicalPolishing)取代了旧的方法。CMP技术综合了化学和机械抛光的优势:单纯的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,完美性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为完美的表面,又可以得到较高的抛光速率,得到的平整度比其他方法高两个数量级,是目前能够实现全局平面化的唯一有效方法。
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